photomask.
光掩模版事业｜专业服务
Pellicle Remount.
光掩模版保护膜换新
由于Projection曝光机上的异物会导致Patterning成形不良、Pellicle可以说是为了保护光掩模版的防尘保护膜。
光掩模版上的Pellicle破损时,顶正科技可提供拆除破损Pellicle与换上新品的服务。
Simulation.
曝光模拟
当客户验证新制程时，需要制作多张光掩模版进行曝光测试，通常会花费高额的成本及冗长的时间；为了提高效率并节省成本，开发出以软件仿真曝光结果的方式，提供客户初步的pattern设计或验证现有pattern的适切性。
顶正运用此仿真系统，根据客户所提供的曝光条件、光阻类型等制程参数并搭配曝光后的效果，取得模拟结果，并以适合此结果的软件参数，进行新设计提案或提出现有设计的改善建议。
经由这样的方式，除了可加快验证方向，缩短开发时间外，更可有效减少成本支出。
目前顶正可对应类型如下：
01
OPC设计提案
02
HTM透过率建议
03
线幅/残膜改善设计
04
Patter设计优缺点分析
05
特殊需求对应
06
其他
Recycle.
废弃光掩模版回收与再生
顶正科技的光掩模版，是以高精密且高单价的合成石英玻璃为基板制作而成。
以往，客户不再使用的光掩模版通常是直接废弃，顶正科技从2000年就开始针对废弃光掩模版进行回收与再生。 希望将长年的成果与经验加以活用，除了为地球环境尽一份心力外，同时也能降低客户端的成本负担。
Instructions.
光掩模版使用说明
顶正科技作为一个高精细大型化光掩模版的先驱，引领市场需求。
最近，随着市场用途的扩大，在同时兼顾产品的大型化、高精细化、制品性能以及制造成本的前提下，我们会持续追求更高的产品质量和更深的客户信赖，并且对产品安全性和环境友好性作全方位的考虑。
为了适应市场的需求、顶正科技针对光掩模版的使用方法，以不同的形式提供给我们专属的客户。使客户得以「更长久、更安全」地使用顶正科技的产品。
【光掩模版使用注意事项说明】
一、运送、搬运时的注意事项
二、开箱时的注意事项
三、取出时的注意事项
四、清洗时的注意事项
五、使用时的注意事项
六、保管时的注意事项
七、制品的注意事项
八、物性表
