photomask.
光罩事业｜光罩
introduce.
何謂光罩
顶正科技生产的光掩模版，是提供给高精密产业所使用的产品。
所谓光掩模版，指的是将2~3微米的精细图案形成于玻璃板上而制成的产品。客户们使用我们所制作的光掩模版，生产类似液晶等各种平面显示器。液晶或电浆等平面显示器被广泛地应用于电视、个人计算机、手机等产品当中。
母公司SK-Electronics从1980年代开始，就积极地针对大尺寸化、高精密化的需求进行技术开发。近年来，已经能够提供第10代液晶面板所需的、超过1米以上大面积的光掩模版。
manufacturing process.
制造流程
applied field.
应用领域
顶正科技所制造的光掩模版，主要使用于TFT(薄膜晶体管)及CF(彩色滤光片)的领域。
・TFT（薄膜晶体管）・
各种液晶形式的其中之一，利用薄膜状的晶体管制成。这是在玻璃基板上，以a-Si（非晶硅）、LTPS、IGZO等形成的晶体管，可应用于液晶面板等。
・CF（彩色滤光片）・
为了使彩色液晶显示器能够呈现色彩，在构成液晶组件材料之一的树脂膜中加入了颜料的成分。而在透明的玻璃基板上，有规则地形成红、绿、蓝三原色的图案。
introduce of gtm./htm.
多灰阶光掩模版
■残膜控制、省PEP运用技术
多灰阶光罩，可分为Gray-tone mask和Half-tone mask２种。
Gray-tone mask是制作出曝光机解析度以下的微缝，再藉由此微缝部位遮住一部份的光源，以达成半曝光的效果。另一方面，Half-tone mask是利用「半透过」的膜，来进行半曝光。因为以上两种方式皆是在１次的曝光过程后即可呈现出「曝光部分」「半曝光部分」及「未曝光部分」之３种的曝光层次，故在显影后能够形成２种厚度的光阻（感光剂）。藉由利用这样的光阻厚度差异、便可以较一般少的片数下将图形转写至面板基板上，并达成面板生产效率的提升。
Gray-tone mask
Half-tone mask
introduce of dc.
DC光掩模版应用
■曝光后产生的形变，可进行客制化调整
当理想格子光掩模版放在曝光机上进行曝光生产时，因曝光机光学及机台特性会使玻璃基板图案有非理想格子形状结果产生，从而影响到与其它图层的重合精度，DC光掩模版则根据各曝光机的曝光特征形状及针对Array基板与CF基板的形状误差进行反向补偿制作，使曝光结果合乎理想格子，提升重合精度。
introduce of psm.
PＳＭ光掩模版
■曝光解像能力再突破
PSM为Phase Shift Mask(相位差光掩模版)，膜种由原本Cr膜变更为Phase Shift膜，以下简称PS膜。
此材料特点在于当光线经过glass及PS膜后其波长会有180度的相位反转，利用此相位差可提高面板曝光区域的光阻Intensity对比，进而让细线宽的设计可以更容易解像；故此相位差光掩模版可以让曝光机的解像力得到提升和改善。
而PSM产品又可分成两种类型，即Only PSM和Rim PSM (Cr+PS)。 使用时机可依据客户图形设计或线宽建议适合的类型，将解像力提升到最优化。
