photomask.

光罩事業｜光罩

introduce.

何謂光罩

頂正科技生產的光罩，是提供給高精密產業所使用的產品。

 

所謂光罩，指的是將2~3微米的精細圖案形成於玻璃板上而製成的產品。客戶們使用我們所製作的光罩，生產類似液晶等等的各種平面顯示器。液晶或電漿等等的平面顯示器被廣泛地應用於電視、個人電腦、手機等產品當中。

 

母公司SK-Electronics從1980年代開始，就積極地針對大尺寸化、高精密化的需求進行技術開發。近年來，已經能夠提供第10世代的液晶面板所需要之超過1米以上大面積的光罩。

manufacturing process.

製造流程

applied field.

應用領域

頂正科技所製造的光罩，主要使用於TFT(薄膜電晶體)及CF(彩色濾光片)的領域。

・TFT（薄膜電晶體）・

各種液晶形式的其中之一，利用了薄膜狀的電晶體而形成。這是在玻璃基板上，以a-Si（非晶矽）、LTPS、IGZO……等形成的電晶體。可應用於液晶面板等。

・CF（彩色濾光片）・

為使彩色液晶顯示器能夠呈現色彩，於構成液晶元件材料之一的樹脂膜中，加入了顏料的成分。而在透明的玻璃基板上，有規則地形成紅、綠、藍三原色的圖案。

introduce of gtm./htm.

多灰階光罩

■ 殘膜控制、省PEP運用技術

多灰階光罩，可分為Gray-tone mask和Half-tone mask２種。

Gray-tone mask是製作出曝光機解析度以下的微縫，再藉由此微縫部位遮住一部份的光源，以達成半曝光的效果。另一方面，Half-tone mask是利用「半透過」的膜，來進行半曝光。因為以上兩種方式皆是在１次的曝光過程後即可呈現出「曝光部分」「半曝光部分」及「未曝光部分」之３種的曝光層次，故在顯影後能夠形成２種厚度的光阻（感光劑）。藉由利用這樣的光阻厚度差異、便可以較一般少的片數下將圖形轉寫至面板基板上，並達成面板生產効率的提昇。

Gray-tone mask

Half-tone mask

introduce of dc.

DC光罩應用

■ 曝光後產生的形變，可進行客製化調整

當理想格子光罩放在曝光機上進行曝光生產時，因曝光機光學及機台特性會使玻璃基板圖案有非理想格子形狀結果產生，從而影響到與其它圖層之重合精度，DC光罩即是根據各曝光機之曝光特徵形狀及針對Array基板與CF基板的形狀誤差，進行反向補償製作，使曝光結果合乎理想格子，提升重合精度。

introduce of psm.

PＳＭ光罩

■ 曝光解像能力再突破

PSM為Phase Shift Mask(相位差光罩)，膜種由原本Cr膜變更為Phase Shift膜，以下簡稱PS膜。

 

此材料特點在於當光線經過glass及PS膜後其波長會有180度的相位反轉，利用此相位差可提高面板曝光區域的光阻Intensity對比，進而讓細線寬的設計可以更容易解像；故此相位差光罩可以讓曝光機的解像力提升、改善。

 

而PSM產品又可分成兩種類型，Only PSM、Rim PSM (Cr+PS)。使用時機可依據客戶圖形設計、或是線寬建議適合的類型，將解像力提升到最優化。