photomask.
光罩事業｜專業服務
Our service.
專業服務
Pellicle Remount.
光罩保護膜換新
由於Projection曝光機上的異物會導致Patterning成形不良、Pellicle可以說是為了保護光罩的防塵保護膜。
光罩上的Pellicle破損時,頂正科技可提供拆除破損Pellicle與換上新品的服務。
Simulation.
曝光模擬
當客戶驗證新製程時，需要製作多張光罩進行曝光測試，通常會花費高額的成本及冗長的時間；為了提高效率並節省成本，開發出以軟體模擬曝光結果的方式，提供客戶初步的pattern設計或是驗證現有pattern的適切性。
頂正運用此模擬系統；依客戶所提供曝光條件、光阻類型等製程參數並搭配曝光後的實績，取得模擬結果，並以適合此結果的軟體參數，進行新設計提案或提出現有設計的改善建議。
經由這樣的方式，除了可加快驗證方向、縮短開發時間外，更可有效減少成本支出。
目前頂正可對應類型如下：
01
OPC設計提案
02
HTM透過率建議
03
線幅/殘膜改善設計
04
Patter設計優缺點分析
05
特殊需求對應
06
其他
Recycle.
廢棄光罩回收與再生
頂正科技的光罩，是以高精密且高單價的合成石英玻璃為基板製作而成。
以往，客戶不再使用的光罩通常是直接廢棄，頂正科技從2000年就開始針對廢棄光罩進行回收與再生。 希望將長年的實績與經驗加以活用，除了為地球環境進一份心力外，同時也能降低客戶端的成本負擔。
Instructions.
光罩使用說明
頂正科技作為一個高精細大型化光罩的先驅，引領市場需求。
最近，隨著市場用途的擴大、更大型化、高精細化、製品性能與成本也必須兼顧的前提下、我們會持續追求更高的品質、信頼性、及對安全性、環境作全方位之考量。
為了因應市場的需求、頂正科技針對光罩的使用方法，以不同的形式提供給我們專屬的客戶。使客戶得以「更長久、更安全」地使用頂正科技之製品。
【光罩使用注意事項說明】
一、運送.搬運時的注意事項
二、開箱時的注意事項
三、取出時的注意事項
四、清洗時的注意事項
五、使用時的注意事項
六、保管時的注意事項
七、製品的注意事項
八、物性表
